项目类别 : 曝光机
项目名称 : 曝光机uve-m500
项目介绍 :
电源： ac380v 3 50hz 60a
電源線：16m2 * 4c
曝光均勻度：85％以上
有效照射面積：610l×916w(mm) (18”x24”x2片)
用途：pcb板干膜湿膜之线路曝光
燈管：5kw×2燈
點 燈 時 間：3 sec以內
穩 定 時 間：約8分鐘
燈 管 電 流：1.3a/1.6a
水箱容量：36l 5l（熱交換）
外接冷卻水水溫：20~30c
冷卻水塔：10噸 冰水機：5噸
檯面冷卻： 冷氣強制氣冷
檯面切換時間：4~5 sec
吸真空：8~10 sec
真空度要求：-700mmhg以上
外接氣壓源：2~3 kgf/cm2
光量積算器：pro-face品牌lcd觸控式顯示型人機介面
plc控制器 ：三菱fx2n系列 水壓控制器：sns-c102
壓力調整器： bn-3rt0-8a 冷凍系統：6hp渦卷式壓縮機
机台尺寸：2755l×1414w×1693 100h （mm
power：ac380v 3φ 50hz 11kva
system：uniformity above 85%
available exposure area :610mm*916mm
uv light：high voltage mercury lamp 5kw *2pcs
machine size：w1340*l2100*h1800
operation：human machine interface uv does controller
utiltites：(1).cooling tower :3ton pipe 3/4"
other：(1).lcd screen monitor within chinese and english,high frequency take samples control system
(2). electromagnetic lock exposure frame ,convenience and precise
(3)upper frame/lamp and lower frame/lamp,can set the energe independently
(4)fault anomaly detector display system in chinese and english ,it is conve
